НИВЦ МГУ
имени М. В. Ломоносова
  • Научно-исследовательский
    вычислительный центр
    Московского государственного
    университета имени М. В. Ломоносова
     Главная »

    Annealing of deposited SiO2 thin films: full-atomistic simulation results

  • Grigoriev F.V., Katkova E.V., Sulimov A.V., Sulimov V.B., Tikhonravov A.V.
    Журнал 
    Optical Materials Express
    Опубликована 
    пятница, 1. января 2016
    URL_istina 
    http://istina.msu.ru/publications/article/34542150/
    journalRanking 
    2.67

  • Контакты

      119234, Российская Федерация, Москва, ГСП-1, Ленинские горы, дом 1, стр. 4, НИВЦ МГУ
     +7 495 939-5424,
      Подробнее

Все материалы сайта НИВЦ МГУ доступны по лицензии:

Creative Commons Attribution 4.0 International