Skip to main content
Feedback
Login
English
Русский
Research
Computing Center
Lomonosov Moscow
State University
Home
Structure
Administration
Отдел кадров
Academic council
Laboratories
Профком
Young scientists council
СПОРТ
Research
Conferences
Seminars
Scientific projects
Our publications
Видео
Диссертации
Математический центр
Лаборатория суперкомпьютерного кодизайна
Education
Staff
News
Computing Resources
About
Contacts
RCC history
RCC symbolics
Our parthners: in Russia
Our parthners: in the world
Home
»
Annealing of deposited SiO2 thin films: full-atomistic simulation results
Grigoriev F.V., Katkova E.V., Sulimov A.V., Sulimov V.B., Tikhonravov A.V.
Журнал
Optical Materials Express
Опубликована
Friday, 1. January 2016
URL_istina
http://istina.msu.ru/publications/article/34542150/
journalRanking
2.67
News
МОСКОВСКИЙ ФЕСТИВАЛЬ НАУКА 0+ 11-13 ОКТЯБРЯ 2024 ГОДА
08 October 2024 11:26
Проект по исследованию углеродного баланса водохранилищ - победитель Международного климатического конкурса «Зеленая Евразия»
03 October 2024 11:08
Конкурсы РНФ
29 September 2024 13:49
15 сентября 2024 г. на территории Московского Университета прошёл Оесенний забег «Темп10МГУ — 270».
20 September 2024 11:13
Молодежный конкурс научных исследований, практических разработок и программных систем 2024
09 September 2024 10:42
Конкурс научных работ молодых ученых МГУ
27 June 2024 18:37
RCC journal
Journal "Numerical methods and programming"